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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8寸大晶圆加工线搭配的超去离子水系統,时刻带来含硅废渣150吨。废渣中虽无血本属,但硅硫含量高易水垢,且阻值率需到18MΩ·cm也能造纸废水补救。原先补救工艺设计是没办法能够满足新颁发的《电子为了满足电子时代发展的需求,重工业水造成的污染源的环保摆放标准规定》(GB39731-2020)有点的摆放限制值。 废水处理工艺物质特色 重要被污染的物 :溶液硅(200-300mg/L)、颗粒剂硅(粒度分布0.1-1μm) 特色的标准 :TOC<10μg/L,硼纯度<5μg/L 生活饮用水性能 :低电阻率(<50μS/cm)但硅无机化合物底部形态复杂化 处理工艺标准流程标准流程 企业创新适用"梯级膜剥离 +电去正离子"组成的工艺: 微滤预外理 :1μm陶瓷图片膜过滤大颗粒物硅,通量达到80LMH 阴阳离子互换聚酯树脂 :D201大孔不饱和树脂选用性吸收硅酸分子结构 2级RO平台 :一段回收并率60%,其二段采取高脱硼膜器件 EDI电去铝离子 :电流大小相对密度2A/m²,一直取除残余物阳离子 太阳光的紫外线消菌 :254nmUV紫外光线分子量40mJ/cm² 工艺亮点纷呈 设计多功能阻硅剂(生物碳胺类pp物),廷缓膜造成的污染周期时间3倍 EDI组件全新流道设计方案,硅消除率完善至99.8% 在线免费硅浅析仪(预估规模0.1-500μg/L)保证有目的控制 运作成果 经三、方检侧: 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼纯度从8μg/L降下来0.3μg/L 系统收回率从原40%发展至68% 膜更改过渡期增加至5年,年执行成本预算减小35%

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